0% Complete
صفحه اصلی
/
ورود به سیستم
/
سوالات متداول
/
تماس با ما
صفحه اصلی
/
پنجمین سمینار شیمی کاربردی انجمن شیمی ایران
استفاده از حلال با دمای اتکتیک عمیق کولین کلرید/ اتیلن گلیکول در ساخت غشاهای پلیمری به منظور تصفیه پساب رنگی
Deep eutectic solvent as a hydrophilic additive in modification of polyethersulfone membrane for separation improvement
نویسندگان :
وحید وطن‌پور سرقین ( دانشگاه خوارزمی ) , احمد دهقان ( دانشگاه رازی ) , علیرضا حریفی مود ( دانشگاه خوارزمی )
کلید واژه ها :
حلال با نقطه انکتیک پایین، نانوفیلتراسیون، افزودنی آبدوست، محافظت از محیط زیست
چکیده مقاله :
در این پژوهش ما، گزارشی از ساخت غشاء نانوفیلتراسیون پلی‌اتر سولفون و اصلاح آن توسط حلال با نقطه اتکتیک پایین به عنوان یک عامل اصلاح کننده جدید ارائه شده است. حلال با نقطه اتکتیک پایین با ترکیب کردن اتیلن گلیکول و کولین کلراید ساخته شد. حلال با نقطه اتکتیک پایین به عنوان یک افزودنی آبدوست جهت اصلاح غشاء پلی‌اتر سولفون/حلال با نقطه اتکتیک پایین با استفاده از فرایند جدایش فاز ناشی از ضدحلال به محلول ریخته‌گری غشاء افزوده شد، غشاءهای حاصل توسط آنالیزهای میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM)، اندازه‌گیری زاویه تماس و آزمایش هیدرولیکی آب مقطر مورد تجزیه و تحلیل قرار گرفتند. عملکر غشاءها توسط توانایی جداسازی ماده رنگ‌زا نیز ارزیابی شد. اثر بارگذاری غلظت‌های متفاوت حلال با نقطه اتکتیک پایین بطور سیستماتیک بر عملکرد غشا نیز بررسی شد. بیشترین مقدار شار آب مقطر مربوط به غشاء 2 درصدوزنی حلال با نقطه اتکتیک پایین بود که این شار 23 برابر غشاء پلی‌اتر سولفون خالص و 3/1 برابر غشا پلی‌اتر سولفون/پلی‌وینیل پیرولیدون بوده است. میزان پس‌زنی ماده رنگ‌زا برای تمام غشاءهای اصلاح شده بیش از 99% بوده است. نتایج نشان داد که حلال با نقطه اتکتیک پایین عامل تخلخل‌ساز خوبی نیست اما افزودنی آبدوست مناسب جهت اصلاح غشاء پلی‌اتر سولفون می‌باشد
لیست مقالات این رویداد
Samin Hamayesh
