0% Complete
صفحه اصلی
/
ورود به سیستم
/
سوالات متداول
/
تماس با ما
صفحه اصلی
/
پنجمین سمینار شیمی کاربردی انجمن شیمی ایران
تخریب فوتوکاتالیسی تتراسایکلین توسط اکسیدروی خالص و دوپ شده با آهن
تخریب فوتوکاتالیسی تتراسایکلین توسط اکسیدروی خالص و دوپ شده با آهن
نویسندگان :
سید یونس موسوی ( دانشگاه صنعتی نوشیروانی بابل ) , مریم نیکزاد ( دانشگاه صنعتی نوشیروانی بابل ) , شهرزاد رحمانی ( دانشگاه صنعتی نوشیروانی بابل )
کلید واژه ها :
اکسیدروی، اکسیدروی دوپ شده با آهن، تخریب فوتوکاتالیستی، تتراسایکلین.
چکیده مقاله :
در این پژوهش نانوذرات اکسیدروی (ZnO) و اکسیدروی دوپ شده با آهن (Fe-ZnO) به روش هم‌رسوبی همراه با اولتراسونیک سنتز گردیدند. جهت بررسی ساختار بلوری، گروه‌های عاملی، مورفولوژی و اندازه ذرات و بررسی عناصر شیمیایی نمونه‌های اکسیدروی خالص و دوپ شده با آهن، از آنالیز‌های XRD، FTIR، FESEMو EDS استفاده گردید. الگوهای XRD ساختار استوانه‌ای شش وجهی نمونه‌ها و بلوری بودن آن‌ها را تأیید نمود و میانگین اندازه بلور برای نمونه‌های ZnO و Fe-ZnO به‌ترتیب 20/38 و 10/64 نانومتر محاسبه گردید. همچنین بر‌اساس نتایج حاصل ازآنالیز FESEM، اندازه متوسط نانوذرات ZnO و Fe-ZnO در حدود 40 و 70 نانومتر محاسبه شد. خواص فوتوکاتالیستی نمونه‌های سنتز شده جهت تخریب تتراسایکلین تحت تابش نورمرئی، مورد بررسی قرار گرفت. بررسی خواص فوتوکاتالیستی نمونه‌ها نشان داد دوپ نمودن یون آهن سبب بهبود خواص فوتوکاتالیستی اکسیدروی گردید، به‌طوری که بازده تخریب تتراسایکلین توسط نمونه اکسیدروی دوپ شده با آهن برابر با 73 درصد به‌دست آمد که نسبت به بازده نمونه‌ی خالص (39/60 درصد) تخریب بالاتری را از خود نشان داد.
لیست مقالات این رویداد
Samin Hamayesh
